ОКР «Разработка кластерной линии фотолитографии для обработки слоёв фоторезиста в субмикронной DUV литографии при изготовлении СБИС на пластинах диаметром 200 мм», шифр «Трек-200» (Oferta №133034626es)

Comenzando

Registro en el sitio, después de lo cual las siguientes funciones del sitio estarán disponibles para usted:

• Suscríbase a listas de correo gratuitas para sus frases clave
• Ver anuncios de licitación
• Exportar información resumida en formato Excel
• Ver parte de la información sobre los ganadores, proveedores y clientes de las licitaciones

Para utilizar todas las funciones del sitio y ver la información completa, necesita registrar una cuenta comercial

• Tarifa seleccionada
• Paga por el acceso de cualquiera de las formas posibles